X射線熒光分析法:

能量散射X射線熒光光譜法（EDXRF）作為鍍層厚度測(cè)量和材料分析的方法，可用來(lái)定量和定性分析樣品的元素組成，也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測(cè)量。無(wú)論是在實(shí)驗(yàn)室還是工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中，這一方法都能勝任，并還可以與現(xiàn)代化設(shè)備一起發(fā)揮作用。

X射線熒光分析fa作為一種常用測(cè)試方法，有著其突出的優(yōu)勢(shì)。它幾乎可以測(cè)量所有工藝相關(guān)元素，并且工作時(shí)無(wú)損且不接觸樣品。測(cè)量時(shí)間一般在數(shù)秒鐘內(nèi)，很少多于一分鐘。通常不需要復(fù)制的樣品制備，即可進(jìn)行快速測(cè)量。利用該方法，可以同時(shí)測(cè)量均質(zhì)材料及鍍層的厚度和化學(xué)成分。不僅如此，X射線熒光分析方法檢測(cè)各種類(lèi)型樣品里的微量有害物質(zhì)。

原理：

X射線熒光分析基于以下物理現(xiàn)象：樣品材料中的原子由于受到初級(jí)X射線轟擊，從而失去內(nèi)層軌道中的某些電子。失去電子所留下的空穴會(huì)被外層電子來(lái)填補(bǔ)，在填補(bǔ)的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生每個(gè)元素的特征X射線熒光。接收器探測(cè)到該熒光射線后，便能提供樣品的材料組成等信息。